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tratados podem ser utilizados como janelas óticas das células solares, assim como

material semicondutor para as camadas tipo-p e tipo-n, (CHOPRA

et al.

, 1983,

WIENKE

et al

., 2008, ZHANG

et al

., 2008). O ZnO além de ser abundante na

natureza não é tóxico.

Em relação às formas de deposição de filmes (Pulverização Catódica,

Evaporação, Deposição Química por Vapor, Laser Pulsado, Sol-Gel, etc.) a técnica

de spray-pirólise possui algumas vantagens sob as demais técnicas, como o baixo

custo, a facilidade de manuseio dos equipamentos e a não exigência de um sistema

de vácuo durante a deposição (CHOPRA

et al.

, 1983). A Técnica de Spray-pirólise

consiste em incidir um

spray

contendo uma solução iônica de um sal de interesse

contra um substrato previamente aquecido. Ao entrar em contato com esse

substrato, as substâncias precursoras sofrem decomposição pirolítica, ocorrendo

reações químicas que dão origem ao composto desejado.

Com isto, a proposta deste trabalho foi a produção e caracterização de filmes

de óxido de zinco dopados com nitrogênio, ZnO:N, como materiais

nanoestruturados, para aplicação na camada absorvedora tipo-p da junção

semicondutora formadora das células solares, dentro das propriedades esperadas

para a sua funcionalidade. Particular interesse foi dado a preparação de filmes de

ZnO dopados do tipo-p, cuja preparação de forma eficiente e reprodutível ainda

representa uma barreira a ser vencida nesta área do conhecimento, visto que

intrinsecamente o ZnO possui uma condução tipo n.

2 MATERIAIS E MÉTODOS

2.1 Preparação da Solução Precursora

Os filmes ZnO:N foram produzidos a partir de uma solução de acetato de

zinco 0,1M diluída em água deionizada e álcool isopropílico na proporção 1:3. Para a

preparação de 1,0 litro de solução de acetato de Zinco 0,1M, foram utilizados 21,95g

de acetato de zinco bi-hidradado [Zn(CH3COO)

2

. 2H

2

0] diluído em 250 ml de água

deionizada e 750 ml de álcool isopropílico. O elemento químico dopante foi o

nitrogênio, para produção de filmes de ZnO:N. Os filmes de ZnO 0,1M foram