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dopados com N nas concentrações atômicas de: 1, 1,5, 2, 2,5 e 3% at., utilizando
como reagente o acetato de amônia.
2.2 Limpeza do Substrato
Os filmes de ZnO:N foram depositados via técnica de spray-pirólise
pressurizado em substratos de vidro comum. Os substratos passaram por um
processo de limpeza de acordo com o procedimento a seguir: lavagem das lâminas
com água deionizada e detergente neutro e fervura em água deionizada durante o
tempo de 30 minutos. Posteriormente ao processo de fervura, as lâminas já
resfriadas, foram imersas em álcool etílico para serem levadas ao aparelho de
ultrassom durante 15 minutos. Por fim, realizou-se a secagem das lâminas, através
de sopro de ar comprimido filtrado ou nitrogênio gasoso comercial.
2.3 Técnicas de Caracterização
A caracterização estrutural foi realizada através da Técnica de Difração de
Raios X,
com o método do pó, onde a radiação incidente é monocromática e o
ângulo de incidência é variável. Com este método pode-se determinar a estrutura
cristalina, as fases presentes nos filmes e a orientação preferencial de crescimento
dos grãos. Foi possível identificar os picos característicos das fases do ZnO
referenciados através do padrão no arquivo JCDPS #79-206. O difratômetro de raios
X utilizado foi o XRD 7000 marca Shimadzu, com anodo de cobre e monocromador
de grafite, pertencente ao Laboratório de Materiais Avançados/CCT/UENF. A faixa de
varredura utilizada foi de 20-70º e a velocidade de varredura de 2,0 (graus/min).
Para a análise dos tamanhos dos cristalitos foi utilizada a equação de Debye-
Scherrer (Scherrer, 1918):
)
cos(
hkl
hkl
hkl
B
k D
(1)